自清洗餘氯分析儀自清洗原理
 

　　1、S200 Cl2 餘氯分析儀電化學全自動清洗原理:在餘氯電極測量部位的高純度黃金環(測量電極)與不鏽鋼反電極之間加載高頻脈衝電壓對附著在黃金電極表麵的水分子進行電解，產生瞬間活性氧氣和氫氣；
 

　　2、其中瞬間活性氧氣會氧化電極表麵附著的有機物；瞬間活性氫氣會阻止泥垢、鏽斑、鈣質在該部位的生成並同時擊碎有機附著物；
 

　　3、同時，電解生成的氣體(包括氫氣和氧氣)因比重遠小於水的原因，會在迅速脫離電極表麵過程中如吹掃般剝離包裹在電極表麵的附著物；
 

　　自清洗過程中產生的氣流非常小。
 

自清洗餘氯分析儀自清洗效果
 

　　1、全自動清洗的時間及周期可由用戶通過儀表菜單自行設置設定。每天的自清洗次數可設定為0或1或2次，而每次自清洗的持續時間為5秒。
 

　　2、每次開始清洗時，儀表顯示及輸出值將被短暫鎖定5分鍾，以進行清洗，並確保電極恢複極化後再重新進入正常測量狀態。
 

　　3、餘氯電極的測量部位自始至終保持清潔。
 

　　4、由於自清洗自動清除掉附著在電極表麵的汙物，使得每次清洗後的電極測量信號相當於進行了一次專業的校準，從而確保其在下次清洗前的這一段時間內一直處於測量狀態。